DSM obsiegt im Patentstreit

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5 Mai 2014

Der Chemiekonzern DSM, der in Fragen des geistigen Eigentums auf die Kompetenz von V.O. zurückgreift, hat kürzlich einen kommerziellen Erfolg verbucht, indem es ein Patent von Konkurrent 3D Systems definitiv in den Mülleimer beförderte. Beide Unternehmen operieren im Bereich der Stereolithographie, einer Technik, bei der sich ein dreidimensionales Objekt mithilfe einer schichtenweise aufgebauten Polymerisation einer Flüssigkeit mit Licht (Photopolymerisation) erstellen lässt.

Disclaimer
Das Patent von 3D Systems, das zunächst vom Europäischen Patentamt (EPA) verliehen worden war, wurde von DSM in einem Oppositionsverfahren angegriffen. Während des Verfahrens der Patentverleihung war ein so genannter Disclaimer verwendet worden, um das Patent im Vergleich zu einer früheren Patentveröffentlichung, die ein früheres Einreichungsdatum hatte, allerdings zum Zeitpunkt des Patentantrags von 3D Systems noch nicht veröffentlicht worden war, zu erneuern.

An sich ist ein solcher unveröffentlichter Disclaimer unter strengen Auflagen erlaubt. Die Oppositionsabteilung war jedoch der Ansicht, der verwendete Disclaimer genüge den strengen Auflagen nicht und hob das Patent daher auf. 3D Systems legte in einem Versuch, diese Entscheidung aufzuheben und das Patent aufrecht zu erhalten, Beschwerde gegen diese Entscheidung der Oppositionsabteilung ein. Die Technische Beschwerdekammer des EPA urteilte daraufhin, der Disclaimer sei in der Tat ungültig und bestätigte damit die Entscheidung der Oppositionsabteilung zur Aufhebung des Patents.

Nachdem das Hindernis von 3D Systems nun aus dem Weg geräumt ist, entstehen für DSM neue Möglichkeiten für die Weiterentwicklung und Vermarktung von Photopolymeren und Zusammensetzungen, die bei der Stereolithographie Einsatz finden können.